63-79

УДк 62-4
DOI: https://doi.org/10.25686/2306-2819.2021.1.63

1.     Electrochemical stability enhancement in reactive magnetron sputtered vn films upon annealing treatment / A. Achour, M. Islam, I. Ahmad et al. // Coatings. 2019. Vol. 9. No. 2 Pp. 1-7 https://doi.org/10.3390/coatings9020072.
2.     Correlative experimental and theoretical investigation of the angle-resolved composition evolution of thin films sputtered from a compound mo2bc target / J. Achenbach, S. Mráz, D. Primetzhofer et al. // Coatings. 2019. Vol. 9. No. 3. Pp. 1-14. https://doi.org/10.3390/coatings9030206.
3.     Cougnon F., Depla D. The seebeck coefficient of sputter deposited metallic thin films: the role of process conditions // Coatings. 2019. Vol. 9. No. 5. Pp. 1-13. https://www.mdpi.com/2079-6412/9/5/299
4.     Gas sensing with nanoplasmonic thin films composed of nanoparticles (au, ag) dispersed in a cuo matrix / M. Proença, M. Rodrigues, J. Borges et al. //Coatings. 2019. Vol. 9. No. 5. Pp. 1-11. https://www.mdpi.com/2079-6412/9/5/337.
5.     Nickel film deposition with varying rf power for the reduction of contact resistance in NiSi / S. Eadi, H. Song, H. Song et al. //Coatings. 2019. Vol. 9. No. 6. Pp. 1-9 https://www.mdpi.com/2079-6412/9/6/349.
6.     Experimental and modeling study of the fabrication of mg nano-sculpted films by magnetron sputtering combined with glancing angle deposition / H.Liang, X. Geng, W. Li et al. // Coatings. 2019. Vol. 9. No. 6. Pp. 1-12. https://www.mdpi.com/2079-6412/9/6/361.
7.     Phase Selectivity in cr and n co-doped TiO2 films by modulated sputter growth and post-deposition flash-lamp-annealing / R. Gago, S. Prucnal, R. Hübner et al. // Coatings. 2019. Vol. 9. No. 7. Pp. 1-13 https://www.mdpi.com/2079-6412/9/7/448.
8.     The effect of RF sputtering conditions on the physical characteristics of deposited GeGaN thin film / C. Thao, D. Kuo, T. Tuan et al. // Coatings. 2019. Vol. 9. No. 10. Pp. 3-10. https://www.mdpi.com/2079-6412/9/10/645.
9.     Электрические и оптические свойства пленок оксида цинка, нанесенных методом ионно-лучевого распыления оксидной мишени / А.П. Достанко, О.А. Агеев, Д.А. Голосов и др. // Физика и техника полупроводников. 2014. Т. 48. Вып. 9. С. 1274-1279.
10. Вольпян О.Д., Обод Ю.А., Яковлев П.П. Получение оптических пленок оксида цинка магнетронным распылением на постоянном и переменном токе // Прикладная физика. 2010. № 3.
С. 24-30.
11. Маныкин Э. А., Самарцев В. В. Оптическая эхоспектроскопия. М.: Наука, 1984. 270 с.
12. Фотонное эхо в однослойных и трехслойной полупроводниковых пленках различной наноразмерной толщины и исследование их свойств/ И.И. Попов, Н.С. Вашурин, С. Э. Путилин и др. // Известия РАН. Серия физическая. 2014. Т. 78. № 2. С. 229–232.
13.   Технологические методы формирования тонких пленок / Н.И. Сушенцов, А.В. Мороз, С.А. Степанов и др. // Известия РАН. Серия физическая. 2014. Т. 78. № 3. С. 313–315.
14. Фотонное эхо и зондовая микроскопия как методы исследования тонких пленок для микроэлектронных датчиков/ А.В. Мороз, Н.С. Вашурин, И.И. Попов и др. // Вестник Поволжского государственного технологического университета. Серия: Радиотехнические и инфокоммуникационные системы. 2012. № 2 (16). С. 64-72.
15. Фотонное эхо в парах молекулярного йода и нанопленках как метод оптической обработки информации / И.И. Попов, Н.С. Вашурин, К.Ш. Газизов и др. // Известия РАН. Серия физическая. 2012. Т. 76. № 3. С. 322-325.
Исследование мемристорного эффекта в нанокристаллических пленках ZnO / В.А. Смирнов, Р.В. Томинов, В.И. Авилов и др. // Физика и техника полупроводников. 2019. Т. 53. Вып. 1. С. 77–82.