74-81

УДК 681.586
DOI: 10.15350/2306-2819.2018.4.74

1.     Ghorannevis Z., Hosseinnejad M.T. Effect of substrate temperature on structural, morphological and optical properties of deposited Al/ZnO // Theoretical Applied Physics. 2015. Vol. 21, № 8. P. 33-38.
2.     Weiqiang S., Yuehui H., Yichuan C. Investigation of the Properties of Al-doped ZnO Thin Films with Sputtering Pressure Deposition by RF Magnetron Sputtering// Advances in Computer Science Research (ACSR). 2017. Vol. 76. P. 1790-1792.
3.     Зайцев С.В., Ващилин В.С. Влияние концентрации кислорода на микроструктуру, морфологию и оптические свойства пленок оксида цинка, формируемых методом магнетронного распыления // Вестник ИрГТУ. 2017. Т. 21, № 8. С. 167-175.
4.     Брус В.В., Ковалюк З.Д. Оптические свойства тонких пленок TiO₂-MnO₂, изготовленных по методу электронно-лучевого испарения // Журнал технической физики. 2012. Т. 82. Вып. 8. С. 110-113.
5.     Swanepoel R. Determination of the thickness and optical constants of amorphous silicon// Printed in Great Britain. 1983. № 16. P. 1215-1222.
6.     Вольпян О.Д., Обод Ю.А., Яковлев П.П. Получение оптических пленок оксида цинка магнетронным распылением на постоянном и переменном токе // Прикладная физика. 2010. № 3. С. 24-30.
7.     Гусейнов Ф.Г., Мамедяров О.С. Планирование эксперимента в задачах электроэнергетики. М.: Энергоатомиздат, 1988. 150 с.
8.     Налимов В.В., Чернова Н.А. Статистические методы планирования экстремальных экспериментов. М.: Наука, 1965. 275 с.
9.     Гаскаров Д.В., Дахнович А.А. Оптимизация технологических процессов в производстве электронных приборов. М.: Высшая школа, 1986. 191 с.
10. Глудкин О.П., Обичкин Ю.Г., Блохин В.Г. Статистические методы в процессе производства радиоэлектронной аппаратуры. М.: Энергия. 1977. 296 с.
11. Барвинюк В.А. Управление напряженным состоянием и свойства плазменных покрытий. М.: Машиностроение, 1990. 384 с.